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超高速納米氧化鋅研磨分散機

納米氧化鋅的分散難點(diǎn):納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當中,容易出現抱團的現象,導致物料粒徑變大,分散效果不佳,產(chǎn)品改性不充分。

如果使用普通的分散設備,很難將納米氧化鋅分散均勻,會(huì )出現團聚的現象,團聚體難以打開(kāi),而如果采用SGN研發(fā)的分散設備,研磨分散機的話(huà),先研磨后分散機,解決團聚問(wèn)題,可達納米氧化鋅還原至納米級。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-07-01
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:27
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超高速納米氧化鋅研磨分散機

納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀的新型高功能精細無(wú)機產(chǎn)品,表現出許多特殊的性質(zhì),如非遷移性、熒光性、壓電性、吸收和散射紫外線(xiàn)能力等,利用其在光、電、磁、敏感等方面的奇妙性能,可制造氣體傳感器、熒光體、變阻器、圖像記錄材料、壓電材料、壓敏電阻、高效催化劑、磁性材料和塑料薄膜等。
                  

納米氧化鋅的分散難點(diǎn):納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當中,容易出現抱團的現象,導致物料粒徑變大,分散效果不佳,產(chǎn)品改性不充分。

如果使用普通的分散設備,很難將納米氧化鋅分散均勻,會(huì )出現團聚的現象,團聚體難以打開(kāi),而如果采用SGN研發(fā)的分散設備,研磨分散機的話(huà),先研磨后分散機,解決團聚問(wèn)題,可達納米氧化鋅還原至納米級。

SGN研磨式分散機,是由膠體磨+分散機結合而成的設備,主要是為了解決納米級物料的分散,如:納米碳酸鈣、納米氫氧化鎂、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。

GMD2000系列研磨分散設備是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)

GMD2000系列超高速納米氧化鋅研磨分散機的特點(diǎn):

①   線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨

②   定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。


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